2012年3月21日,陶氏化学宣布其陶氏首尔技术中心在韩国首尔落成。今后,该中心作为陶氏化学的全球研发中心,将着重致力于推动显示器和半导体相关应用的技术进步。
陶氏首尔技术中心的研发重点领域包括光刻机、有机发光二极管(OLED)、显示材料以及高级芯片封装,全力支持陶氏的业务增长。该中心将成为陶氏OLED研发的全球中心所在,并配备尼康193nm沉浸式扫描仪和300nm机台设备,陶氏化学电子材料业务部门因此成为世界上惟一一个在韩国拥有193i应用开发设备的抗光阻供应商。
包括这一新的研发中心在内,陶氏化学近10年来在韩国的投资已超过4亿美元,旨在建立半导体、显示器和LED的先进生产基地,并拓展电子材料领域的业务。
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